válvulas de compuerta
ASME, API, JIS, BS, DIN, GB, JB, HG
WCB, A105, LCB, LC3, CF8, CF8M, CF3, CF3M, CF8C, CF10M, CG8M, WC1, WC6, WC9, F11 y etc.
Las dos caras de sellado de una válvula de compuerta de placa son perpendiculares al eje de la tubería. Su elemento de cierre es un disco único, equipado con un mecanismo de estiramiento. Esta válvula de compuerta es ampliamente aplicable en sistemas de tuberías de transmisión de gas natural, productos petrolíferos e ingeniería química.
Desde el aspecto del estilo de estructura, la válvula de compuerta de conducto pasante se puede dividir en dos tipos de válvulas con orificios de desviación y válvulas sin ningún orificio de desviación.
Estándar de diseño según: API 6D, ASME B16.34, GB/T 19672
El disco de la válvula y el sello del asiento de la válvula son tratados repetidamente mediante procesos especiales y protegidos por múltiples sellos, y se caracterizan por ser anticorrosivos, a prueba de penetración, antiabrasivos y de larga vida útil;
El asiento de la válvula está diseñado con un sello doble duro-blando, que tiene una estanqueidad confiable;
Con un diseño de paso total, tanto el coeficiente de resistencia al flujo como la pérdida de presión son muy pequeños;
Cuando la válvula está completamente abierta, la erosión media que se produce en su cara de sellado es menor que la de otras válvulas;
La válvula de compuerta de conducto pasante con orificios de desviación instalada en una tubería también se puede limpiar directamente con un limpiador de tuberías;
Para la estructura de ajuste, la válvula tiene una buena capacidad de ajuste de flujo;
No hay restricción de espacio para la instalación de la válvula, es decir se permiten instalaciones tanto paralelas como perpendiculares.
Material del cuerpo: acero al carbono, acero inoxidable,
Diámetro nominal: 1″~40″(DN25~DN1000)
Rango de presión: Clase 150~2500 (0,6 Mpa-42,0 Mpa)
Conexión final: RF, RTJ, BW
Temperatura de trabajo: -46℃~+200℃
Operación: volante, reductor, eléctrico, actuador neumático, actuador electrohidráulico, etc.